第181章 浸入式技術

第181章 浸入式技術

第181章浸入式技術

這個時期,手機行業的競爭正在迅速形成。

市場日益激烈。

翻蓋手機被製造出來了,滑蓋手機也開始出現,這讓那些手機廠商,根本無暇分心研究觸摸屏這個領域。

再加上,現在的客戶,他們更在意手機是否結實耐用、電池續航時間長不長,等等「質量」問題,所以誰也不會浪費時間,金錢,去考慮製造市場看不上的手機。

陳偉東提出來的這個設想,索尼公司並不好看,但看在他的「巨資」份上,還是很樂意陪他瘋一把的。

因為這不僅可以累積經驗,也可以加快技術的革新。

無論怎麼看,都是雙贏。

離開索尼公司之後,陳偉東馬上就打電話聯繫了陳傑,跟他說明了前期需要的準備工作。

包括和索尼公司的一些合作細節。

想要跨越最少十年的技術壁壘,可不是一件容易的事情。

光是一個手機的操作系統,就不是一般的難。

雖然無窮大計算機公司,有上千名優秀的程序員,但他們擅長的是應用軟件開發,對於如何設計一款手機操作系統,完全就是抓瞎。

最後,計算機部門經過研究討論,決定還是從模仿開始。

否則從無到有,光是摸索,就要花費大量的時間。

山寨,永遠是追上對方技術腳步最快的方法。

他們找來和塞班公司聯名開發的新款手機,準備先剖析塞班系統的內核,然後嘗試設計出一款簡單的操作系統,最後再加以改進

這個時候,由於無窮大公司和精密研究所的關係緩和,不少研究人員又陸續回到了實驗室。

他們樂得嘴都合不攏了,都在交口稱讚,還是陳傑大度。

然後,就一頭鑽進了實驗室,繼續他們之前沒有完成的研究。

按理來說,他們這些「外來人員」,使用公司的儀器,是要收費的,但陳傑通過趙工了解到,精密研究所簡直窮的叮噹響,一年的經費都才七八百萬。

這也就讓他實在沒好意思開口要錢。

克魯格教授,也在最近一個月,和陳傑等人進行了多次討論,終於確定了研究方向。

他現在的首要目標,就是設計出一款晶片圖紙,這個難度非常大,需要很多人配合。

小小的晶片,集合了全人類的智慧,其實就連美利堅,也沒辦法完全掌握所有的環節。

一枚手機晶片的面積基本上只有10平方毫米左右,也就是和大拇指甲蓋差不多大。

而且這裏面可不是只有CPU一個結構,其他諸如GPU,NPU,ISP,DAC解碼晶片,基帶等等結構全部都要位列其中。

設計師要把幾十億個電晶體,排列在這個指甲大小般的區域內,並讓它們準確無誤的進行工作。

精準度就好比用筆,在上面雕刻出一整座城市。

一款晶片從圖紙階段到實物階段,大概需要經過2個步驟,分別是晶片設計和晶片製造。

打造一款晶片就像是建造一棟大樓,而晶片設計就像給大樓設計建築圖紙。

美利堅在晶片設計領域,佔據了絕對優勢。

他們的半導體產業起步最早,世界上第一塊晶片就是他們製造出來的。

晶片是半導體產業的產品,半導體是用來做晶片的材料。

這個行業,通俗一點,就叫晶片行業,學術一點就叫半導體行業,實際上相當於土豆和馬鈴薯的區別。

僅僅設計出晶片,還是遠遠不夠的,他還需要用光刻機在晶片上進行雕刻。

光刻機就相當於雕刻用的「筆」。

而世界上,只有3個國家有能力製造出光刻機,其中能製造出高端光刻機的,只有島國和荷蘭。

島國的國土面積雖然不大,卻掌握著強大的科技實力和工業基礎。

在八十年代,島國的光刻機是全世界最先進的。

那個時候,尼康、佳能公司也能生產光刻機,曾一度佔領行業50%以上的份額,包括IBM、英特爾、德州儀器在內的大客戶,無一不爭相搶購他們的光刻機。

然而,由於這兩家公司的一個失誤,導致島國將光刻機巨頭的皇冠,拱手讓給了荷蘭的ASML。

ASML從2000年左右開始研發EUV光刻機,並決定大規模量產。

彼時,島國光刻機企業卻認為系統太過複雜,並未選擇跟進。

那個時候的ASML還是一家小公司,面對島國制霸光刻機市場,他們決定以小博大,彎道超車,試一試台積電,林本堅提出的「浸入式光刻機技術」。

這個技術,你聽起來覺得很高端,實際上是一種非常簡單的技術,簡單到陳偉東第一次聽說的時候,還以為自己聽錯了。

所以他對這件事情印象深刻。

浸入式光刻技術,就是在光刻鏡頭,與待刻的矽晶片之間,充滿液體,就可以大幅度提高光刻機的加工精度!

陳偉東將這項「技術」,告訴了克魯格教授。

最近這些天,他在實驗中將那台從樹屋研究所帶回來的光刻機,精度一百九十納米的光刻機,成功刻制出了一百零五納米的密集圖形!

這一結果讓他欣喜若狂!

幾近失態!

通常的光刻機,在光刻鏡頭與矽晶圓之間,沒有任何遮擋。

當然,從另一個角度來說,它們之間,存在的是空氣。

浸入式的思路,就是用液體來替換掉中間的空氣。

由於液體具有折光率,所以當紫外線通過液體介質之後,它的光源波長就會縮短,從而起到精微刻制的作用。

本來他們還覺得有些老舊的光刻機,突然搖身一變,成為了一百零五納米的光刻機,遠遠的超過了現有的光刻技術!

其實這個浸入式光刻技術,並不算ASML首創。

早在80年代初,就有科學家採用浸入技術,成功提高了光刻效果。

然而,這項技術,它的液體很容易污染光學鏡片。

所以這個這個時期的主流光刻技術研究,只是將其作為一個過渡手段,並沒有起到足夠的重視。

一旦下一代光刻技術成熟,便會毫不猶豫的拋棄浸入式光刻。

另外,感謝「書友20170325081724939」打賞的100書幣。

感謝書友:「就該好好、jerryWWW,投的月票支持。」

(本章完)

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